製品説明
シリコン酸化物ウェーハは、さまざまなハイテク産業やアプリケーションで使用される先進的で不可欠な材料です。高品質のシリコン材料を加工して製造される高純度の結晶物質であり、さまざまな種類の電子および光子アプリケーションに最適な基板です。
シリコン酸化物ウェハーは半導体業界で広く使用されており、マイクロチップやその他の電子デバイスの製造プラットフォームとして使用されています。優れた電気的特性と熱的特性を持つシリコン酸化物ウェハーは、集積回路、メモリチップ、その他多くの電子デバイスの製造に不可欠です。
電子産業以外にも、シリコン酸化物ウェーハは太陽光発電や太陽電池の用途でも広く使用されています。これは太陽電池の製造の基盤として機能し、表面反射率を下げ、光吸収を高めることでセルの効率を向上させる層として機能します。
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酸化技術 |
湿式酸化または乾式酸化 |
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直径（インチ） |
2″ / 3″ / 4″ / 6″ / 8″ / 12″ |
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酸化物の厚さ |
10nm～15µm |
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許容範囲 |
+/- 5% |
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表面 |
片面酸化（SSO）/両面酸化（DSO） |
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炉 |
水平管状炉 |
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ガス |
水素と酸素ガス |
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温度 |
900度～1200度 |
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屈折率 |
1.456 |
製品写真
私たちを選ぶ理由
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