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シリコン窒化物 LPCVD および PECVD

シリコン窒化物 LPCVD および PECVD

Sibranch は、シリコンのニーズに合わせてさまざまなフィルム処理オプションを提供しています。これには LPCVD 窒化物が含まれており、Sibranch は、化学量論的 LPCVD 窒化物または低応力 LPCVD 窒化物、および超低応力 LPCVD 窒化物を使用したウェーハを提供できます。
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技術的なパラメーター
製品説明

 

Sibranch は、お客様のシリコンのニーズに合わせてさまざまなフィルム処理オプションを提供しています。これには LPCVD 窒化物が含まれており、Sibranch は、化学量論的 LPCVD 窒化物または低応力 LPCVD 窒化物、および超低応力 LPCVD 窒化物を使用したウェーハを提供できます。また、高品質の PECVD 窒化物、低応力 PECVD 窒化物、および PECVD オキシ窒化物も提供しています。ウェーハの直径は 2 インチから 200 mm、窒化物の厚さは 100 Å から 20,000Å までご利用いただけます。

最小バッチ注文は 25 枚のウェハーで、任意の数量を注文できます。

 

LPCVD窒化物の種類

 

1. 化学量論的LPCVD窒化物

フィルムの厚さ: 両面とも100Å~4500Å

Film stress: =>800±50 MPa 引張応力

 

2. 低応力LPCVD窒化物

フィルムの厚さ: 両面とも100Å~20,000Å

フィルムストレス:<250±50 MPa Tensile Stress

 

3. 超低応力LPCVD窒化物

フィルムの厚さ: 両面とも100Å~20,000Å

フィルムストレス:<100±50 MPa Tensile Stress

 

PECVD窒化物の種類

 

1. PECVD窒化物

フィルムの厚さ:片面100Å~5000Å

フィルム応力: +400±50 MPa 引張応力

 

2. 低応力PECVD窒化物

フィルムの厚さ:片面100Å~20,000Å

フィルムストレス:<250±50 MPa Tensile Stress

 

3. PECVDオキシナイトライド

フィルムの厚さ:片面100Å~20,000Å

フィルム応力: -400±50 MPa 引張応力

 

顧客の要件に応じて、シングルキャスト、ダブルキャスト、PECVD、LPCVD、ストイキオメトリックLPCVD、およびその他の窒化シリコン基板をカスタマイズできます。

 

製品写真

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私たちを選ぶ理由

 

当社の製品は、世界トップ5メーカーおよび国内の主要工場からのみ調達されています。 高度な技術を持つ国内外の技術チームと厳格な品質管理措置によってサポートされています。

私たちの目標は、顧客に包括的な 1 対 1 のサポートを提供し、専門的でタイムリーかつ効率的なスムーズなコミュニケーション チャネルを確保することです。 最低注文数量は少なく、24 時間以内の迅速な配達を保証します。

 

ファクトリーショー

 

当社の膨大な在庫は 1000+ 製品で構成されており、お客様は 1 個からでも注文できるようにしています。 自社所有のダイシング・バックグラインド設備とグローバル産業チェーンとの全面協力により、迅速な出荷を可能にし、お客様のワンストップ満足と利便性を確保します。

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私たちの証明書

 

当社は、特許認証、ISO9001認証、国家ハイテク企業認証など、これまでに取得したさまざまな認証を誇りに思っています。 これらの認証は、イノベーション、品質管理、卓越性への取り組みに対する当社の取り組みを表しています。

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