製品説明
シリコンカーバイド (SiC) ウェハーと基板は、高い熱伝導率、優れた機械的強度、広いバンドギャップで知られる化合物であるシリコンカーバイドから作られた、半導体技術で使用される特殊な材料です。非常に硬く軽量な SiC ウェハーと基板は、パワーエレクトロニクスや無線周波数コンポーネントなどの高出力、高周波電子デバイスを製造するための堅牢な基盤を提供します。
シリコンカーバイド ウェハーのユニークな特性により、高温動作、過酷な環境、エネルギー効率の向上を必要とするアプリケーションに最適です。
従来の Si デバイスと比較すると、SiC ベースのパワー デバイスは、スイッチング速度が速く、電圧が高く、寄生抵抗が低く、サイズが小さく、高温対応のため冷却の必要性が少なくなります。

当社のシリコンカーバイド ウェーハは、幅広いサイズと仕様で提供されており、お客様は特定のニーズに最適なオプションを選択できます。当社はベア ウェーハとエピタキシャル ウェーハの両方を提供し、あらゆるプロジェクトの要件に合わせて製品をカスタマイズできます。
SiBranch では、最高レベルのサービスとサポートをお客様に提供することに尽力しています。当社の専門家チームは、いつでもご質問にお答えし、お客様のプロジェクトに最適な製品とソリューションに関するアドバイスを提供します。SiBranch は、お客様の多様なニーズを満たす幅広い製品とサービスを提供しています。当社の製品の詳細と、お客様の目標達成にどのように貢献できるかについて、今すぐお問い合わせください。
4H N型SiC 100MM、350μm ウェーハ仕様 |
|||
記事番号 |
W4H100N-4-PO(またはCO)-350 |
||
説明 |
4H SiC基板 |
||
ポリタイプ |
4H |
||
直径 |
(100+0.0-0.5) mm |
||
厚さ |
(350±25) μm (エンジニアリンググレード±50μm) |
||
キャリアタイプ |
n型 |
||
ドーパント |
窒素 |
||
抵抗率(RT) |
0.012-0.025Ω▪cm(エンジニアリンググレード<0.025Ω▪cm) |
||
ウェーハの向き |
(4+0.5) 度 |
||
エンジニアリンググレード |
生産グレード |
生産グレード |
|
2.1 |
2.2 |
2.3 |
|
マイクロパイプ密度 |
30cm²以下 |
10cm²以下 |
1cm²以下 |
マイクロパイプフリーエリア |
指定されていない |
96%以上 |
96%以上 |
オリエンテーションフラット(OF) |
|
||
オリエンテーション |
平行 {1-100} ±5 度 |
||
オリエンテーションフラット長さ |
(32.5±2.0) mm |
||
識別フラット(IF) |
|
||
オリエンテーション |
Si面: 90度時計回り、オリエンテーションフラットから±5度 |
||
識別フラット長さ |
(18.0+2.0)ミリメートル
|
||
表面 |
オプション1: Si面標準研磨 エピ対応C面光学研磨 |
||
オプション2: Si面CMPエピ対応、C面光学研磨 |
|||
パッケージ |
マルチウエハー(25)輸送箱 |
||
(ご要望に応じてシングルウェーハパッケージも対応可能) |
6H N型SiC、2インチウェーハ仕様 |
|
記事番号 |
W6H51N-0-PM-250-S |
説明 |
生産グレード6H SiC基板 |
ポリタイプ |
6H |
直径 |
(50.8±38) ミリメートル |
厚さ |
(250±25) UM |
キャリアタイプ |
n型 |
ドーパント |
窒素 |
抵抗率(RT) |
0.06-0.10Ω▪cm |
ウェーハの向き |
(0+0.5) 度 |
マイクロパイプ密度 |
100cm-²以下 |
オリエンテーションフラットオリエンテーション |
平行 {1-100} ±5 度 |
オリエンテーションフラット長さ |
(15.88±1.65) ミリメートル |
識別平面方向 |
Si面: 90度時計回り。逆向きフラット±5度 |
識別フラット長さ |
(8+1.65) ミリメートル |
表面 |
Si-face 標準ポリッシュ エピレディ |
C面マット |
|
パッケージ |
パッケージ シングルウェーハパッケージまたは複数ウェーハ輸送箱 |
製品写真

シリコンカーバイド (SiC) ウェーハは、高温、高電圧、高周波動作を必要とする電子デバイスや光電子デバイスの製造に使用される半導体材料の一種です。SiC はワイドバンドギャップ半導体材料であり、シリコンなどの従来の半導体よりも高い破壊電圧を持ち、より高い温度で動作できます。
SiC ウェーハは、通常、物理気相輸送 (PVT) 法または化学気相堆積 (CVD) 法を使用して製造されます。PVT 法では、SiC の種結晶を高温炉に入れ、原料 (通常はシリコンまたは炭素) を蒸発するまで加熱します。蒸気はキャリア ガス (通常はアルゴン) によって輸送され、種結晶上に堆積して単結晶 SiC 層を形成します。CVD 法では、シリコンと炭素の前駆体を含むガス混合物を高温で反応させることによって、基板上に SiC 層を堆積します。
SiC 結晶が成長したら、薄いウェーハにスライスされ、高度に平坦かつ滑らかになるまで研磨されます。得られた SiC ウェーハは、追加の半導体層の成長のためのプラットフォームとして使用でき、不純物をドープしてデバイス製造用の p 型および n 型領域を作成できます。
SiC ウェハーには、シリコンなどの他の半導体材料に比べていくつかの利点があります。SiC は熱伝導率が高いため、熱破壊を起こすことなく高温で動作できます。さらに、SiC は破壊電圧が高く、シリコンよりも高い電圧と周波数で動作できるため、高出力電子機器や高周波デバイスなどの用途に適しています。
SiC ウェーハの特性を詳しく調べる
SiC ウェハのユニークな電子バンド構造が、その優れた特性の鍵となっています。バンドギャップが広いため、電子が乗り越えるべきハードルが高くなり、次の 2 つの重要な利点が生まれます。
高温安定性:固有キャリア濃度が低いため、SiC デバイスは大きな漏れ電流なしに高温で動作でき、要求の厳しい環境に最適です。
高破壊電界:広いバンドギャップは高電圧に耐える強力な能力にも貢献し、高いブロッキング電圧と低いオン状態抵抗を備えたデバイスを可能にします。
SiC ウェハーは、電気的特性だけでなく、熱的および機械的側面でも優れています。
効率的な熱放散:SiC は優れた熱伝導性により熱を効率的に放散することができ、これは高出力アプリケーションにとって重要な機能です。
過酷な環境における耐久性:SiC は機械的強度と硬度が高く、摩耗に強いため、厳しい環境にも適しています。
SiC には、シリコンと炭素原子の積層配置によって区別されるポリタイプと呼ばれるさまざまな形態があります。これらのうち、4H-SiC と 6H-SiC は電子機器で最もよく使用されています。
4H-SiC:優れた電子移動度と広いバンドギャップにより、より高い効率と性能が得られるため、パワーエレクトロニクスに適しています。
6H-SiC:より高い正孔移動度とわずかに狭いバンドギャップにより、高温および高周波デバイスに応用されます。
ポリタイプの選択は、特定のアプリケーションのニーズによって決まります。必要な電気特性、動作条件、目標とするデバイス性能などの要素はすべて、最適な SiC ウェーハ タイプを選択する上で重要な役割を果たします。
私たちを選ぶ理由
当社の製品は、世界トップ5メーカーおよび国内の主要工場からのみ調達されています。 高度な技術を持つ国内外の技術チームと厳格な品質管理措置によってサポートされています。
私たちの目標は、顧客に包括的な 1 対 1 のサポートを提供し、専門的でタイムリーかつ効率的なスムーズなコミュニケーション チャネルを確保することです。 最低注文数量は少なく、24 時間以内の迅速な配達を保証します。
ファクトリーショー
当社の膨大な在庫は 1000+ 製品で構成されており、お客様は 1 個からでも注文できるようにしています。 自社所有のダイシング・バックグラインド設備とグローバル産業チェーンとの全面協力により、迅速な出荷を可能にし、お客様のワンストップ満足と利便性を確保します。



私たちの証明書
当社は、特許認証、ISO9001認証、国家ハイテク企業認証など、これまでに取得したさまざまな認証を誇りに思っています。 これらの認証は、イノベーション、品質管理、卓越性への取り組みに対する当社の取り組みを表しています。
人気ラベル: sic ウェーハ、中国の sic ウェーハ メーカー、サプライヤー、工場